ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ


The Presentation inside:

Slide 0

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ ПЛАЗМА. ОПРЕДЕЛЕНИЕ. ХАРАКТЕРИСТИКИ. КЛАССИФИКАЦИЯ.


Slide 1

ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПЛАЗМЫ. ПЛАЗМА – частично или полностью ионизированное состояние вещества, при котором система содержит свободные положительные (ионы) и отрицательные (электроны) заряженные частицы, концентрации которых в среднем практически одинаковы.


Slide 2

КЛАССИФИКАЦИЯ ПЛАЗМЫ ПЛАЗМА бывает равновесной и неравновесной, высоко и низкотемпературной, изотермической и неизотермической, идеальной и неидеальной,


Slide 3


Slide 4

Схема сильноточного ускорителя ТОНУС: 1—генератор импульсных напряжений; 2 — коммутатор; 3 — делитель напряжения; 4 — маслонаполненная двойная формирующая линия; 5 — зарядная индуктивность; 6 — диодный узел; 7 -— соленоид; 8 — камера дрейфа пучка; 9 — цилиндр Фарадея; 10 — шунт обратного тока пушки


Slide 5

ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ ТЕХНОЛОГИЯ изучает методы и процессы переработки сырья в предметы потребления и средства производства.


Slide 6

ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ТЕХНОЛОГИИ Задачей технологии является проектирование и выбор условий, схем и типов производственных процессов и необходимых операций, а также создание конструкций установок и выбор материалов для приборов и машин, необходимых для реализации технологического процесса.


Slide 7

К вопросу о диамагнетизме плазмы


Slide 8

Схема магнетронной распылительной системы с плоской мишенью:


Slide 9

Схема магнетронной распылительной системы с плоской мишенью: 1 — катод-мишень; 2 — магнитная система; 3 — источник питания; 4 — анод; 5 — траектория движения электрона; 6 —- зона распыления; 7— силовая линия магнитного поля


Slide 10


×

HTML:





Ссылка: